介绍
与标准全息光栅不同，离子刻蚀全息光栅采用离子刻蚀产生特定的锯齿或层状槽型以提高衍射效率。
特点
高光谱分辨率
应用
比色法
HPLC
通讯
生命科学
分析仪器
清单
槽型 | 平面基底上的等间距非平行凹槽：三角形轮廓 |
杂散光 | 消除鬼线和杂散光 |
波段范围 | 190~1750nm |
闪耀波段 | 250~1000nm |
刻线密度 | 600gr/mm~2400gr/mm |
基底尺寸 | 25x25mm~120x140mm |
尺寸误差 | 长宽：0~±0.1mm 厚度：±0.1mm |
有效区域 | 四周各留有不大于2mm的冗余量 |
基底材质 | 常用Borofloat 33*，其他材质可选 |
镀膜 | 铝膜* |
*特殊说明：基底和镀膜可定制。
可根据要求提供基底：包括熔融石英、Zerodur、ULE、金属或其他材料。
镀膜应要求：AlMgF2、金或铂。
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