2026-06-17
文章来源：富泰科技
从光通信到精密测量，从光谱分析到低噪声微波信号合成，芯片级微腔克尔孤子频率梳正逐步从实验室研究走向实际应用。
但在这一过程中，一个现实问题始终存在：
为什么克尔孤子频率梳可以被实现，却难以被稳定、可重复地工程化使用？
克尔孤子频率梳在实验室中已经得到广泛验证，但从研究走向工程应用的过程中，可确定性的孤子态激发和稳定性问题始终是绕不开的门槛。
能够产生孤子态，只是第一步。更关键的问题在于：系统是否可以长期稳定运行，以及是否具备工程化与规模化制造的能力。
受腔内热光效应影响，系统容易出现非线性不稳定现象，对器件性能、泵浦激光波长扫描方式和控制条件提出较高要求。这些因素共同导致孤子态的稳定激发与维持，成为频率梳工程化过程中的关键挑战。
针对上述问题，Deeplight开发了CMOS级硅晶圆铜杂质去除工艺，通过构建无铜超低损耗氮化硅平台，缓解氮化硅微腔内热不稳定性影响，实现任意泵浦激光波长扫描轨迹下的孤子态确定性激发，并支持泵浦激光波长慢速扫描孤子态稳定激发。
对于从事集成光学、PIC设计、集成频率梳研发及相关工程化工作的团队而言，这些实践不仅对应具体技术路径，也反映了集成克尔频率梳从实验室验证走向工程应用过程中必须面对的关键问题与解决思路。
一、本场直播你将了解到
✓稳定孤子频率梳实现面临哪些关键挑战
✓如何降低热不稳定性对系统运行的影响
✓CMOS兼容制造如何支撑规模化应用
✓从器件到系统的工程化实践经验
二、适合谁看
• PIC设计与流片团队
• 集成光学频率梳研发人员
• 氮化硅光子器件开发人员
• 光电系统集成团队
• 相关高校及科研机构
三、讲师介绍
彭焕发 博士
北京大学工程学博士、卡尔斯鲁厄理工学院终身研究员、Deeplight资深科学顾问，具有10年以上集成非线性光子器件研发及应用经验。
四、直播时间（6月25日 19:30）
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本次直播由Deeplight国内代理商富泰科技（香港）有限公司提供支持。
